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中科院新疆理化所

发布时间:2020-04-16  浏览次数:3507

中国科学院新疆理化技术研究所引进了我公司设计生产的高真空cvd系统,研究所王老师对我们的产品和服务给予了充分的肯定!


cvd系统hr1200-110itd3f

设备简介:

化学气相沉积(cvd)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法,是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术,包括大范围的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的cvd镀膜系统,适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域;


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